보유장비
| 보유센터명 | 공동실험실습관 |
|---|---|
| 모델명 및 규격 | JSM-7900F / 15kv |
| 제작회사 및 국가 | Jeol / 일본 |
| 이용수가 |
기본이용료 - 0원 기본이용료 - 0원 SEM(/시간) - 80,000원 SEM&EDS(/시간) - 100,000원 전도성 코팅(Pt, /회) - 10,000원 SEM&EBSD(/시간) - 110,000원 시료(/갯수):교외만 적용 - 10,000원 장비교육비(/시간) - 100,000원 |
| 담당자 | 성창훈 tel 055-213-2555 | email sch@cwnu.ac.kr |
- 원리 및 특징
- 주사 전자 현미경은전자선 Electron Beam을 시료의 표면에 주사하여 발생하는 이차전자, 후방산란전자, X선 등을 검츨, 수집하여 그 신호들을 형상화시키는 전자현미경이다
특히 고분해능 전계방사현 주사전자 현미경의 경우 일반적인 전계방사형 주사전자현미경(FE-SEM)과는 다른 Super Hybrid Lens구조를 가지고 있어 전계를 혼성함으로써 더욱더 저가속전압 (3kV이하)에서 고배율의 Image를 쉽게 관찰할 수 있는 전자현미경이다.
- 주요구성 및 성능
- 1) Image Resolution : 0.9nm at 15kV ,1.4nm at 1kV ,1.0nm at 0.5kV
2) Magnification :x25 to x1,000,000 or more
Automatic mag. correction : Available
3) Image types :Secondary electron image, Backscattered electron image
SE and BSE mixed image (by filtering system)
4) Accelerating Voltage :0.05 to 30kV(SEM Mode)
5) Probe current :1pA to 4 x 100nA
2. Electron Optical System
1) Lens control method :New electron optical control mechanism.
2) Electron Gun
Type :In lens Schottky Plus Field Emission-Gun
Emitter :ZrO/W cathode
Axis alignment :Mechanical and electromagnetic deflection
EOS mode :SEM/LDF/GB/GBSH-S or more
Condenser lens (C.L) : Electromagnetic 2-stage lens
Aperture angle control lens (ACL) : Electromagnetic lens
Objective lens (O.L) : Hybrid strong-excitation conical objective lens(Super Hybrid Lens)
Scanning coil :Electromagnetic 2-stage deflection
Scan Rotation :Available, with image rotation correction for WD in each EOS mode.
Image Fine Shift :Diagonal distance 180±30㎛(SEM mode, Acce. Voltage 10kV, WD 15mm)
- 이용분야
- 1. 재료, 반도체, 섬유 및 고분자 물질 등 광범위 시료의 미세구조 관찰 및 성분 분석
2. 생물과 금속, 재료 등 미세입자(powder)의 표면 미세구조 및 형상 관찰
3. 반도체 등의 박막 두께 측정
- 특성화분야
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